原子层千里积和磁控溅射的分裂详解: 千里积机制、速度及材料顺应性
一、原子层千里积(ALD) A. 旨趣 原子层千里积是一种基于化学气相千里积(Chemical Vapor Deposition, CVD)本事的变种,其特有之处在于通过轮换引入先行者体气体进行原子层级别的千里积。ALD的典型流程包括四个算作:吸附、反映、净化和重迭。 吸附:最初,引入先行者体气体到反映腔中,先行者体分子在基板名义单层吸附。 反映:引入第二种先行者体气体,与第一种先行者体反映,酿成单层原子膜。 净化:用惰性气体冲洗反映腔,去除未反映的先行者体和副产品。 重迭:重迭上述算作,逐层...
2024-05-29